引言

高纯氢氟酸为强酸性清洗、腐蚀剂,可与硝酸、冰醋酸、双氧水及氢氧化铵等配置使用,主要应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路(VLSI)芯片的清洗和腐蚀,是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一,还可用作分析试剂和制备高纯度的含氟化学品。目前,在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业,其他方面用量较少。

方案依据SJ/T 11637--2016电子化学品电感耦合等离子体质谱法通则

方法原理

试样溶液经雾化系统雾化后形成气溶胶，由载气带入等离子体内，在高温和惰性氩气气氛中蒸发、汽化、解离和电离，转化成带正电荷的离子，经离子采集系统进入质谱仪，按离子的质荷比进行分离，各离子质谱峰的强度与样品中相应离子浓度成正比，可对各元素进行定性或定量分析。

仪器及试剂

美析ICP-MS6880电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS)

精密微量移液器及洁净的聚丙烯（PP）吸头

精密微量移液器量程: 10u L-100uL，100uL-1000uL。

全氟烷氧基树脂(PFA)瓶

实验用水符合GB/T 11446.1规定的EW-Ⅰ级电子级水。

超纯硝酸，金属离子含量不大于1ug/L。

标准溶液

使用有证多元素溶液标准物质或按GB/T 602规定制备，互有化学干扰、产生沉淀及互有质谱干扰的元素应分组配制。分组实例见表1，表中所用溶液以“%”表示的均为质量分数。